微机电系统
MEMS是Micro Electro Mechanical Systems(微机电系统)的首字母,被称为mems。比如,汽车安全气囊的冲击检测、智能手机、硬盘跌落检测中使用的加速度传感器、投影仪控制光的反射镜设备等。这些产品从而得到了高附加值,进而作为必不可少的设备在广泛领域中得到利用。
本公司在MEMS(微机电系统)过程中采用了3D光刻,实现了三维形状的精密电铸电镀。利用激光直接绘制装置在平面基板上形成微米级三维形状光刻胶(型)的3D光刻技术以及微小形状高精度的电铸工艺都是我司所研发。
最小形状约1μm,最大区域(平面基板)可形成为□200mm,以高耐腐蚀性电铸金属为特点,正在研发各种电铸合金,如钯镍、镍磷、镍钴、镍铁等。
3D Structure Photolithography
●多级抗蚀剂逆锥形,三维自由形状形成※光刻新工法
●无掩模光刻 (h线、i线)的最新高速装置
●精度±0.1μm,微孔开口精度±0.5μm
●最小绘制尺寸1μm、最大绘制φ8inch~□200mm
High Anti-Corrosive Electroforming
●超精密电铸加工技术ex)加工数μm±0.5μm
●可支持电铸材料的高耐腐蚀
●电铸尺寸φ8inch~□200mm
●电铸合金种类Ni,Ni-P,Ni-Co,Ni-Fe,以及其他包含稀有金属的材质等